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温度变化对静态工作点的影响

2011-4-16 19:20| 发布者: weixiu| 查看: 106| 评论: 0

摘要: 晶体管是一个温度敏感器件,当温度变化时,其特性参数(β、ICBO、UBE)的变化比较显著,实验表明:温度每升高1℃,β约增大0.1%左右,UBE减小(2~2.5)mV,温度每升高10℃,ICBO 约增加一倍。晶体管参数随温度的变 ...

晶体管是一个温度敏感器件,当温度变化时,其特性参数(β、ICBO、UBE)的变化比较显著,实验表明:温度每升高1℃,β约增大0.1%左右,UBE减小(2~2.5)mV,温度每升高10℃,ICBO 约增加一倍。晶体管参数随温度的变化,必然导致放大电路静态工作点发生漂移,这种漂移称为温漂。

以基本共射放大电路为例,当温度t↑升高、UBE ↓、其静态电流IB↑、β↑则IC↑↑;

可见,无论是UBE的减小,还是β、ICBO的增大,都使IC增大,从而使Q点向饱和区移动。

静态工作点的移动,将影响放大电路的放大性能,为此,必须设法稳定静态工作点。稳定静态工作点的方法常用的主要有负反馈法和参数补偿法两种。


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